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產(chǎn)品中心表面分析X射線光電子能譜儀
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PHI 硬X射線光電子能譜儀，下一代透明發(fā)光材料使用直徑約為10nm~50nm 的納米量子點(QDs)，結合使用 XPS(Al Ka X射線)和 HAXPES(Cr Ka x射線)對同一微觀特征區(qū)域進行分析，可以對 QDs 進行詳細的深度結構分析。
更新時間：2024-09-12
產(chǎn)品型號：PHI Genesis 900
瀏覽量：1576
PHI X射線光電子能譜儀 提供了一種全新的用戶體驗，儀器高性能、全自動化、簡單易操作。 操作界面可在同一個屏幕內設置常規(guī)和高級的多功能測試參數(shù)，同時保留諸如進樣照片導航和 SXI 二次電子影像精細定位等功能。
更新時間：2024-09-12產(chǎn)品型號：PHI Genesis 500瀏覽量：1540
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